危险！比EUV光刻机卡脖子更残酷的事情来了......
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我们知道除手机需要7nm、5nm及更先进制程的芯片之外，其它大部分电子产品的需求都可以用14nm甚至28nm以上的技术解决，其市场前景十分广阔。对于没有EUV光刻生产高端制程芯片的中芯国际来说，抓住14nm芯片及28nm芯片市场就显得尤为主要。
根据中芯国际去年第四季度的财报来看，最先进的28nm及14nm FinFET工艺则贡献了18.6%的营收，上一年同期只有5%，增长明显。同时，中芯国际还在多地建厂扩产，已经连续在京、深、沪三地投资，布局28nm制程。显而易见的是，中芯国际也看到了现阶段14nm、28nm甚至更成熟制程对中芯国际的重要性。
不可忽略的点是，不管是14nm制程还是28nm制程都需要DUV光刻机作为生产保证，重要性不言而喻。如今，国会议员却提出禁止DUV光刻机出口中芯国际的建议，如果这个建议被接受，那么对于大力扩产成熟制程的中芯国际来说绝对是致命一个的打击。甚至有业内人士认为，禁止DUV光刻机比禁止EUV光刻机，对中芯国际的影响更大，会影响中芯国际的整体生产能力。
美国全面截堵光刻机
实际上不止中芯国际这样的芯片代工厂在光刻机方面被美国制裁，大陆最大的光刻机制造厂商上海微电子也被美国制裁。
被列入UVL名单之后，包括上海微电子在内的33家中国实体，将会受到更为严格的出口限制，从美国出口商处获取产品将十分困难，同时也会受到美国额外的调查。显然这在一定程度上会影响上海微电子研发光刻机的进程。
看到这里或许有人会问，光刻机有那么重要吗？美国为什么要多方围堵我们获光刻机的途径。
芯片制造分为三个环节，分别为上游设计环节，中游制造环节和下游封测环节，目前我国主要卡在中游制造环节上，其中最主要的就是光刻机。一旦我国掌握了光刻机技术就会威胁到了美国在半导体行业中的霸主地位，而美国自然不会允许这样的事情发生。
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